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準分子激光在醫(yī)學(xué)上主要用于屈光不正的治1療，如用PRK、LASIK、LASEK等方法進行屈光不正的治1療，是目前臨床上應(yīng)用比較普遍、安全、快捷、有效、穩(wěn)定的屈光不正治1療方法。

　　美國IBM公司開始使用并且改進準分子激光技術(shù)，主要應(yīng)用在計算機芯片的制造以及塑料物質(zhì)上蝕刻精1確的圖形。

　　1980年IBM公司應(yīng)用193nm準分子激光刨光鉆石。

　　1982年IBM將準分子激光技術(shù)應(yīng)用在半導(dǎo)體光刻工藝中.

　　1986年AT&T貝爾實驗室研制出第1臺準分子激光分步投影光刻機.

　　目前準分子激光已廣泛應(yīng)用在臨床醫(yī)學(xué)以及科學(xué)研究與工業(yè)應(yīng)用方面，如：鉆孔、標記表面處理、激光化學(xué)氣相沉積，物理氣相沉積，磁頭與光學(xué)鏡片和硅晶圓的清潔等方面，微機電系統(tǒng)相關(guān)的微制造技術(shù).

準分子激光氣

產(chǎn)品名稱：準分子激光氣體（Excimer Laser Gases)

其他名稱：氟化ya激光氣體（193nm）；氟化ke激光氣體（248nm）；氯化氙激光氣體（308nm）

產(chǎn)品類型： ArF，KrF，XeCl，5%F2/He，準分子預(yù)混氣供應(yīng)商， Kr/Ne，F(xiàn)2/Kr/Ne，Ar/Ne，F(xiàn)2/Ar/Ne

UN NO.： UN1956

鋼瓶容積： 11L，16L，20L，49L，準分子預(yù)混氣價格，50L

閥門型號：CGA679，DIN 8，DIN 14

高功率準分子激光氣體

可用波長

193 nm

ArF

248 nm

KrF

308 nm

XeCl

450nm~520nm

XeF

較大紫外功率

540 W

較大紫外能量

1100 mj

重復(fù)頻率

可變，準分子預(yù)混氣廠， 1~600 Hz

脈沖穩(wěn)定性

0.5%~1%，rms

長期漂移

0.1%~0.5%，rms

光束分布

均勻，安徽準分子預(yù)混氣，平頂

脈沖寬度

10~20 ns

分子之間形成準分子是一種物理過程。由于準分子的基態(tài)十分不穩(wěn)定，使得準分子會在幾個皮秒的時間內(nèi)就發(fā)生分解返回單體的基態(tài)。可以認為它的激光下能級是未被粒子占據(jù)的空能級，這樣會比較容易地形成布居反轉(zhuǎn)狀態(tài)。所以準分子具有作為增益介質(zhì)的天然屬性。既然無機材料可以產(chǎn)生受激發(fā)射，那么有機材料形成的準分子在理論上也可以形成受激發(fā)射。與無機材料相比，有機材料形成準分子所需要的能量比無機材料要小得多。另外，有機材料較無機材料種類豐富，性質(zhì)也多樣，這為研究有機準分子激光器提供了十分豐富的材料基礎(chǔ)。F. P. Scha¨fer曾經(jīng)預(yù)言具有較高熒光效率的有機分子間所形成的準分子將是理想的激光工作物質(zhì)。、

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